Ulusal Seferberlik Çağrısı: Çin Yarıiletken Litografisi İçin Stratejik Hedefler ve Zorluklar
Çin’in üst düzey yöneticileri, 2026–2030 döneminde operasyonel litografi sistemlerini geliştirmek amacıyla hükümetin ulusal bir seferberlik başlatmasını talep etti. Naura Technology Group Başkanı Zhao Jinrong, Yangtze Memory Technologies Corp Başkanı Chen Nanxiang ve Empyrean Technology Başkanı Liu Weiping, önde gelen yarı iletken araştırma enstitüleriyle bir araya gelerek bu çağrıyı kaleme aldıkları bir makaleyi Science and Technology Review dergisinde yayımladı.
Yarı iletken üretiminde kritik olan bu dönemde, ABD’nin 7 nanometre altı üretim kapasitesini sınırlamaya yönelik ihracat kısıtlamaları gündemde kalmaya devam ediyor. Makalede, litografi teknolojisinin engellerin başında geldiğine dikkat çekilirken, Hollandalı ASML firmasının ekosistem kurmadaki rolü örnek olarak verildi. EUV (aşırı ultraviyole) litografi makinelerinin, yaklaşık 5.000 tedarikçiden gelen 100.000 farklı bileşenin entegrasyonuyla çalıştığı ve ASML’nin esas olarak bu parçaları bir araya getiren bir entegratör konumunda olduğu ifade edildi.
Yöneticiler, Çin’in de benzer bir ekosistem kurması gerektiğini belirterek, “Çin’in ASML’sini nasıl kuracağımız ve bu süreçte kaynakları nasıl dağıtacağımız konusunda hızlı somut uygulama planları hazırlamamız gerekiyor” açıklamasını yaptı. Bununla birlikte, EUV lazer kaynakları, wafer üretim süreçleri ve optik sistemler gibi alanlarda bazı ilerlemeler kaydedilse de, bu bileşenlerin eksiksiz çalışan bir litografi sistemine entegrasyonu hâlâ teknik zorluklar doğuruyor.
Elektronik tasarım otomasyonu (EDA) yazılımları, silikon wafer üretimi ve bazı gazlar gibi alanlar da yarı iletken tedarik zincirinin kritik zayıf noktaları arasında yer alıyor. Hükümet ise stratejik hedefler doğrultusunda sektörü önceliklerden biri olarak konumlandırmaya devam ediyor. Son hükümet çalışma raporunda yarı iletkenler, havacılık, biyoteknoloji ve düşük irtifa ekonomisi ile birlikte gelişmesi gereken ana sektörlerden biri olarak vurgulandı. Beş yıllık kalkınma planında litografi makineleri özellikle anılmasa da, üretim süreçlerini güçlendirmek ve kritik ekipman ile malzemelerin geliştirilmesini hızlandırmak çağrısı yinelendi. Makale, Çin’in 28 nanometre ve üzerindeki “olgun” üretim süreçlerinde küresel çip üretim kapasitesinin yaklaşık üçte birini oluşturarak önemli bir paya sahip olduğunu gösterdi.
